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原位XRD高溫反應(yīng)池

產(chǎn)品介紹

原位高溫XRD反應(yīng)池應(yīng)用于常壓、高溫氣固相化學(xué)反應(yīng)的原位XRD測試與表征，配置了鈹窗/聚酰亞胺膜作為窗口材料；配置了溫控儀/焦耳加熱電源，產(chǎn)生高溫并與樣品臺及樣品臺內(nèi)樣品進行有效熱交換于，通過溫控系統(tǒng)對反應(yīng)池內(nèi)樣品溫度進行控制；配置了冷卻循環(huán)系統(tǒng)和循環(huán)水冷機，通過低溫循環(huán)冷卻液對反應(yīng)池殼進行冷卻降溫處理。

產(chǎn)品參數(shù)

溫度測試范圍	室溫-1200℃
池體材質(zhì)	哈氏合金C276(內(nèi)嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內(nèi)嵌陶瓷)
窗口	進口PI膜/鈹窗
控溫精度	±0.1℃
溫度均勻性	±1℃
池體外表面溫度	≤40℃
氣氛	可通氣氛
水冷配置	1200W循環(huán)水冷機
溫控配置	焦耳加熱電源系統(tǒng)，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件)

池體材質(zhì)	GH2747
分離式樣品臺	氮化鋁
窗口	聚酰亞胺膜
測試溫度	常溫~1000 ℃（空氣或氧氣環(huán)境）
控溫精度	±0.1℃
溫度均勻性	±1℃
池體外表面溫度	≤40℃
氣氛	可通氣氛
水冷配置	1400W循環(huán)水冷機
溫控配置	定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件)

池體材質(zhì)	SUS316L
窗口	聚酰亞胺
密封圈	硅膠
測試條件	常溫-600℃
壓力范圍	0-0.3MPa
控溫精度	0.1℃
溫度均勻性	±1℃
氣氛	可通腐蝕性氣氛，如氨氣，二氧化硫等
水冷配置	270W循環(huán)冷水機
溫控	定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作

池體材質(zhì)	316L不銹鋼
XRD窗口	Be
密封圈	氟膠圈
溫度測試范圍	常溫~300℃?
控溫精度	±0.1℃?
溫度均勻性	±1℃?
氣氛	可通氣氛
光源	可引入外部光源
溫控配置	定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件)?